光刻机90nm什么意思（光刻机1nm）

90nm光刻机能做啥样的手机？

您提起的上海那家公司是上海微电子装备有限公司，截止现在（2020/06/13）这家公司*进的光刻机确实是90纳米的水平。但是不管是苹果和安卓，都没有经过90纳米的过程，第一代和第二代iPhone的CPU是ARM11，使用的是130纳米的工艺，第三代的iPhone3GS已经用上65纳米的工艺。到了iPhone4时已经用上45纳米工艺的自研A4处理器。

高通进入手机芯片制造稍微晚一些，是从65纳米开始的。从第二代S2系列以后才用上45纳米工艺。第一代小米手机M1用的是高通骁龙第三代S3系列的MSM8260处理器。

芯片制造主要看光刻机精度和工艺。按照现在的工艺，用90纳米光刻机经过两次曝光，可以获得45纳米的芯片，三次曝光可以*达到22纳米的水平，三次曝光良品率过低，一般都控制在28纳米或者32纳米。也就是相当于苹果iPhone5/5S的A6/A7处理器水平，或者华为畅享6/7系列、小米红米4系列。

综上所述，利用现代工艺，在使用90纳米光刻机的情况下，我们可以做出90纳米、45纳米、28纳米的手机芯片。这几种芯片完全涵盖智能手机的范围，不会回到大哥大时代！

另外，上海微电子已经完成28纳米光刻机的突破，将于明年（2021年）正式交付使用！28纳米国产光刻机经过多次曝光工艺可以生产28纳米、14纳米、10纳米芯片，极限状态下，不考虑成本和良品率的情况下，也可以生产7纳米芯片。

90 纳米制程工艺的芯片到底有多大，能做什么样的手机？

想想，台积电在大概在2004年，2005年的时候它的90纳米制程工艺技术才完全成熟起来，其实上述这个标题表述不准确，不是90纳米的光刻机，应该说90纳米制程工艺，纳米就是比头发丝还小的概念，90纳米并不是说的芯片整体外观大小，而说的是在芯片上光刻布置的元器件的间距。在芯片上光刻元器件，电路就跟拿着图纸在地基上建设许多房子与基础设施一样，建成后形成一个强大的整体处理功能区，这就是芯片。

其实90纳米制程工艺的芯片整体外观大小与现在7纳米，14纳米制程工艺芯片整体外观差不多一样的，只是芯片上面布置的元器件多少的问题，比如90纳米制程工艺芯片上可以光刻上10亿个元器件，那么7纳米制程工艺的芯片就可能布置上50亿个元器件，很简单的问题，那么肯定的是7纳米制程工艺的芯片功能要强大的多，因为7纳米制程工艺的芯片上元器件要多得多，设计更完善，更合理，功能越强大。

那么有90纳米制程工艺技术的光核机能做啥样的手机？不要小看90纳米制程工艺的芯片在大概2004年时候才成熟，那时候用90纳米制程工艺做的芯片在很多*手机上用过，80后的大哥肯定用过这样的手机，比如德州仪器的90纳米制程工艺的 OMAP 1710 CPU，那时候这个处理器就搭载在诺基亚一系列型号手机上，像N90，N80，E70，E60，主要诺基亚的N系列与E系列产品上，用过诺基亚手机都知道手机本身整体也不大，因此90纳米制程工艺与7纳米制程工艺做出来的芯片并不是说外观上有大小的关系，主要是功能上大小的关系。

估计不会只做2G手机和大哥大！我虽外行不懂技术，可以想象一，1纳米是比一根头发小20000倍90纳米有多大？可能功能上不如7/9纳米，现在的手机某些功能对多数人没多大用或者根本用不上。因为竞争状态下厂家以功能争销量！所以说断供芯片不是手机一下回到2G或大哥大年代！压力变动力相信中国人定能解决这个难题！唯有如此！屈服只会换来更大的耻辱！

苹果的第*手机cpu APL0098，于2007由三星电子90nm工艺制作的，它用于iphone 3G和第一代iphone touch上。

也就是说90nm工艺造出来的芯片只能用于几乎算第一代的智能手机上，现在即使程序支持这个cpu，但是跑啥程序都会卡的没法用。

别的不说，做出来的手机同样性能的情况下个头肯定不小。因为在相同性能的情况下芯片的面积需要大很多倍。再就是架构之类的也有很大的关系。纯小白，只能说这些了。

遇到困难迎难而上的是勇士，跪下求饶的是软蛋，自己跪下还对敢于面对困难的勇士冷嘲热讽嫌人不跪好的是贱人。90nm的工艺如果是我们能够使用的*技术的话，在有限资源的基础上克服困难也会有一个能够接受的结果。至于目前貌似拦路虎的芯片问题，以中国举国之力，必将成为我们这个民族前进道路上的一个路标。

要看是90纳米制程还是90纳米的光刻机。90纳米制程和现在主流7纳米相差太大不适合做手机芯片，因为手机芯片追求体积小巧和低功耗。如果是90纳米光刻机并不是做出来的芯片就是90纳米，可以曝光3次达到14纳米级别。但是7纳米以下基本就是euv能做，asml*进的机器是13.5纳米，并不是波长5纳米7纳米

当年塞班软件挺好的，几百K大小。软件优化夏不行么？非的堆硬件？

90纳米的光 科技 根本不可能做手机，现在正常的手机用20纳米以上的工艺的都很难找到了，90纳米至少是十几年前就已经被手机和电脑处理器淘汰的产品了。

几周前随上科院去几家IC相关企业调研，得到的消息是，国内企业要抱团，1-2年，从头到尾，全国产国有自主，做出90nm，做出来就是伟大胜利的第一步。这个不是用不用在手机上的问题，就像当年的盾构机，是0到1的突破。制成到5nm要再进一步，2nm已经登天，花再大代价到更小制成，意义真不大，留给我们一些时间去追赶。当然，光芯片是另外的出路，也在研究积累。说实话，当我听到业界大佬说90nm，我开始是心里哇凉哇凉的，但转念一想，也能释然，不积跬步无以至千里。这次调研给我信心是，相关从业企业里年轻人挑起大梁，一点一滴的做着该做的事。

光刻机是什么？目前我国光刻机的加工精度是多少？

我们日常使用的手机里面的芯片就是光刻机制造出来的，光刻机是芯片制造过程当中一个重要的环节，光刻机直接决定着芯片的质量。而我国作为全球*的芯片消费国之一，光每年进口的芯片都高达几万亿人民币。

光刻机是芯片制造过程中最重要的一部分，就是我们把想要设计的芯片，用光学技术刻在晶圆上，用光学技术把各种各样形式的电路通过光刻胶把电路印制在基板上， 然后再进行下一步的刻蚀过程 。通过光刻胶印制的电路可以使阳文形式的电路，也可以是阴文形式的电路。

光刻机目前一直处于垄断地位，在光刻机领域，最有名的就要提到ASML公司了，它是一家荷兰的公司。最初光刻机领域比较厉害的两个国家是荷兰和日本，而在2017年之后，ASML联合台积电推出了光源浸没式系统开始，将日本企业甩开距离，从此稳坐头把交椅的宝座。技术一直处于垄断地位。

一台*的光刻机需要各种*的零件支持，而这些零件大部分都来自西方的国家。而这些基本上都是禁止对我们国家出口，因此我国光刻机技术受到限制。前段事件美国制裁华为，不允许世界上任何一个国家给华为提供技术，华为虽然可以设计芯片，但是设计芯片的高端软件还主要依赖于海外。

我们中国现如今可以量产的光刻机才发展到90nm，距离国际水平我们还是有很长的路要走的。但相信在不久的将来，我们国家也能研制出属于我们自己的光刻机。到那个时候我们就不需要受到外国人的制裁了，因为我们就能制造出芯片供我们的国民使用。

90nm表示的是什么意思怎么读？

90nm表示的是长度为90纳米，90nm读作90纳米。

纳米(nm)，是nanometer的译名，即为毫微米，是长度的度量单位，国际单位制符号为nm。1纳米=10的负9次方米，长度单位如同厘米、分米和米一样，是长度的度量单位。1纳米相当于4倍原子大小，比单个细菌的长度还要小的多。国际通用名称为nanometer，简写nm。

单个细菌用肉眼是根本看不到的，用显微镜测直径大约是五微米。假设一根头发的直径是0.05毫米，把它轴向平均剖成5万根，每根的厚度大约就是1纳米。也就是说，1纳米就是0.000001毫米。纳米科学与技术，有时简称为纳米技术，是研究结构尺寸在1至100纳米范围内材料的性质和应用。纳米技术的发展带动了与纳米相关的很多新兴学科。有纳米医学、纳米化学、纳米电子学、纳米材料学、纳米生物学等。全世界的科学家都知道纳米技术对科技发展的重要性，所以世界各国都不惜重金发展纳米技术，力图抢占纳米科技领域的战略高地。中国于1991年召开纳米科技发展战略研讨会，制定了发展战略对策。

十多年来，中国纳米材料和纳米结构研究取得了引人注目的成就。目前，我国在纳米材料学领域取得的成就高过世界上任何一个国家，充分证明了我国在纳米技术领域占有举足轻重的地位。纳米效应就是指纳米材料具有传统材料所不具备的奇异或反常的物理、化学特性，如原本导电的铜到某一纳米级界限就不导电，原来绝缘的二氧化硅、晶体等，在某一纳米级界限时开始导电。这是由于纳米材料具有颗粒尺寸小、比表面积大、表面能高、表面原子所占比例大等特点，以及其特有的三大效应:表面效应、小尺寸效应和宏观量子隧道效应。 对于固体粉末或纤维，当其有一维尺寸小于100nm，即达到纳米尺寸，即可称为所谓纳米材料，对于理想球状颗粒，当比表面积大于60㎡/g时，其直径将小于100nm，达到纳米尺寸。

现时很多材料的微观尺度多以纳米为单位，如大部份半导体制程标准皆是以纳米表示。直至2017年2月，*的中央处理器，也叫做(CPU，Central Processing Unit)的制程是14nm。纳米别名:毫微米。

国产90纳米光刻机可以干什么？

90纳米光刻机能让中芯国际有价值！90纳米发展到1纳米制程也就靠时间的推移慢慢成长。5纳米制程再往上非常困难，每低一纳米需要更长时间的研究。90纳米发展到7纳米制程比5纳米发展到2纳米要快多了。

生产力是一方面，高精尖又是一方面。你不能说我可以满足生产力了，我就知足啦！就好比我们国家的航空发动机，你虽然能飞，但是你的体积大做功少。人家发射一枚火箭能运10顿物质到太空，轮到你就需要发射2到3次才能达到这种效果。人家飞机能装满燃料弹药起飞，你只能装满油少挂弹，或者挂满弹少加油！人家一颗芯片可以集成处理器，GPU，内存。而你得用三颗不同芯片来替代，这样有可比性么？

当年都说汽车工业是一个国家工业的象征，中国当年就是在一穷二白的基础上，然后制造出了解放牌汽车，然后又用手工打磨等各种技术制造出来的第1台红旗轿车。中国既然有了第1台90纳米的光科技，65纳米28纳米，那就是很快就能攻破的事。在加之中国很多技术是先用于军事方面，所以我就在想中国肯定在军事方面已经拥有了65甚至28纳米的光刻机技术。只是还没有向民用方面转用。

1、华为需要7/5nm EUV，DUV用处不大 2、这个光刻机肯定签订了附加条款，不能给中国高端芯片代工 3、光刻机里有美国技术，所以不能够卖给华为 4、华为除了光刻机以外，没有芯片产业链，蚀刻机和其他很多很多都要重新制备 5、根据一滴血原则，敢给华为提供第四条的东西的企业肯定会被制裁，到时候为了华为赔上整个中国半导体。

国内差的不仅仅是主要的cpu。内存颗粒，电源芯片，PHY芯片，各个领域的接口芯片都有很大差距。主要是协议是国外定的，只能人家先出来，你再仿制。

对于目前高*技术越来越必需的跨国合作和交流，但限于我们自身的不同，感觉我们要用一己之力去对抗现代化的科技和政治界的八国联军了，或许我们可以集中力量办大事，可付出的代价不可谓不大。也于经济规律违背，短时没问题，难道永远这样做？

知道芯片还是从电脑中CPU来的，90年代中期接触电脑，认为CPU才是芯片，其它都叫集成电路块，十几二十几个脚的算少的了，CPU上几百个脚感觉太高端了，都还没进入纳米时代，感觉现在还是如此，最领先的技术还是用在CPU上，以前的集成电路块用普通技术芯以足够了。

数码IT产品的更新换代其实也有很大成分是求新思维的作用，并不完全是因为旧机器完全不能用，我现在家里的笔记本还是2010年生日给自己买的，intel奔腾4400，自己加了内存硬盘容量，系统还是老的win7旗舰版，我不玩游戏，平时一般用用完全没问题一点也不卡，偶尔卡一下是家里网络问题，只要它不坏我会继续用下去。

低纳米工艺制程就是实现了高效率低功耗体积小而已，而这些基本就是手机和可穿戴设备在用，说白了都是些民用消费品，对于其他的大型设备影响不太。

荷兰阿斯麦Asml这种超级光刻机一般国家都买不到，他们产量有限，一年才十几台，有一半被台湾的台积电买走，因为台积电是阿斯麦的股东之一，中国大陆原本定了一台，不过迫于美国压力一直没给中国大陆发货，就是中芯国际定的，10纳米以下的光刻机制造需要全球一百多家*科技公司支持，它需要的零配件都是*的，只有这些*公司才能提供，所以才光刻机难造！中国要赶超需要很长时间。

90nm到7nm，5nm，说白了就是芯片内器件密度的不同，对同一电路可以用更小的芯片制造。同时，功耗也会低一些。对于手机，这个低nm芯片优势巨大，体积小，功耗低，功能强大。为保护国产芯片，建议国家对进口消费芯片征税。

美国主导的半导体产业核心是独立化，包括自动驾驶技术。源于两点，一是人口密度，二是军事用途。中国的人口密度让我们可以另外开辟一条路，譬如现在国家大力推行的云端战略。如果80%以上的运算和储存都可以在云端完成。手机还要那么快的算力做什么呢？

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